高いプロセス性能を持つ横型LPCVD炉 - SVCS Process Innovation

高いプロセス性能を持つ横型LPCVD炉
高い柔軟性で効率的かつ経済的な処理が可能
はじめに
SVCSの低圧化学気相成長炉のデザインは、
マルチプロセス機能により、
フル生産システム
(SVcFUR-FP)
では最大能力を得るニーズに応え、
さらに研究および試験生産で使用する小規模バージョ
ン
(SVcFUR-RD)
では、
この機能により高い柔軟性を実現しています。
このデザインは保守が容易で、
安全で信頼性が高い横型炉のプラットフォームを可能にしています。
このSVCSのデザインは、柔軟性
の高い処理を提供しながらも、高効率、最小限の設置面積、低所有コストという点で際立っています。
プロセス
LPCVDプロセス
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シリコン窒化膜
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高温酸化膜(HTO)
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特徴
低温酸化膜(LTO)
TEOS酸化膜
多結晶シリコン、傾斜温度分布と平衡温度分布の両方
が可能
ドープした多結晶シリコン
酸窒化膜
特徴と利点
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社内設計、高度な特別仕様、社内製造による最新型の
モジュール式制御システム
卓越した結果を得て、炉装置を長期間、故障なしで使用
できるようにするため、常に最高級の部品を選定
さまざまなプロセスを可能にする最大4段の石英チュー
ブ反応炉チャンバ
加熱、非加熱にかかわらず複数の方法による真空制御
- スロットルバタフライバルブ - TBV
- N2バラスト
- 周波数コンバータを使用した真空ポンプ制御
主要真空ポンプメーカーとの提携による真空ポンプシ
ステムの組み込み
チューブレベルでの高度水冷システム、隣接したチュー
ブ間での熱干渉はなし
独自に設計した水冷フランジ
非接触かつ完全自動でボートをチューブにロードする
カンチレバーまたはソフトローディング構成
保守が容易な機械設計
SVCS Process Innovation s.r.o.
Optátova 37, 637 00 Brno
CZECH REPUBLIC
e-mail: info@svcs.eu
http://www.svcs.eu
Process Innovation
技術データ
SVCS CO.
330 S Pineapple Ave. S-110
Sarasota, Florida 34236, USA
e-mail: info@svcspi.com
http://www.svcspi.com
Advanced Equipment MP Co. Ltd.
2-30-4 Jyosui Minami-cho Kodaira-shi
Tokyo, Japan 187-0021
e-mail: saitoh@aempjp.com
www.aempjp.com
高いプロセス性能を持つ横型LPCVD炉
技術データ
ウェハーサイズ
150mm、200mmまたはカスタムサイズ
ウェハー搭載数
FP:100+
RD:25(基準)
加熱システム
3または5ゾーン
フラットゾーン
FP:最大1067mm(42”)
RD:最小300mm(12”)
フラットゾーン内で±0.5℃
処理温度
200℃~1200℃
消費電力
80kW~150kW チューブ構成による
電源
150mm:3相、AC400/480V、140A、50/60Hz
200mm:3相、AC400/480V、160A、50/60Hz
(システムは必ず設置する国の電力網に調整されます)
クリーンドライエア
70~110psig(4.8~7.6bar)
冷却水
40~60LPM
排気
1チューブ当たり210m3/h
オプション
ボートエレベータおよびウェハーハンドリングの自動化
SOURCE
CABINET ト
ソースキャビネッ
SCAVENGERS
スカベンジャー
4 4
TUBE
チューブ
TUBE
3 3
チューブ
2670 (K)
(K)
2670
2643
)M)
2643 )M)
LOAD STATION
ロードステーション
FURNACE
炉
TUBE
2 2
チューブ
2525
2525 (I)
(I)
2620
2620 (J)
(J)
寸法
TUBE
1 1
チューブ
800(C)
(C)
800
1169(G)
(G)
1169
1572(H)
(H)
1572
2500
2500 (A)
(A)
2310 (B)
(B)
2310
1000 (F)
(F)
1000
700
700(E)
(E)
1300
1300 (D)
(D)
5610 (L)
寸法は構成によって異なります。工場までお問い合わせください。
欧州連合
欧州地域開発基金
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